涂層測(cè)厚儀產(chǎn)品及廠家
雙激光定位裝置。鉛玻璃pingbi罩。鍍金x熒光鍍層測(cè)厚儀廠家上市公司應(yīng)用領(lǐng)域黃金，鉑，銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè).金屬鍍層的厚度測(cè)量, 電鍍液和鍍層含量的測(cè)定。主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè)；銀行，首飾銷售和檢測(cè)機(jī)構(gòu)；電鍍行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-04-04
磁性測(cè)厚儀能測(cè)鍍金料元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）任意多個(gè)可xuanze的分析和識(shí)別模型。
更新時(shí)間:2025-04-04
儀器尺寸：690（w）x 575（d）x 660（h）mm樣品室尺寸：520（w）x 395（d）x150（h）mm樣品臺(tái)尺寸：393(w)x 258 (d）mmx/y/z平臺(tái)移動(dòng)速度：額定速度200mm/s 高速度333.3mm/sx/y/z平臺(tái)重復(fù)定位 ：小于0.1um深圳x射線測(cè)厚儀操作環(huán)境濕度：≤90%操作環(huán)境溫度 15℃～30℃
更新時(shí)間:2025-04-04
x射線涂層測(cè)厚儀高壓電源● 輸出電壓：0~50kv● 燈絲電流：0~2ma● 功率：50w● 紋波系數(shù)：0.1%（p-p 8小時(shí)穩(wěn)定性：0.05%
更新時(shí)間:2025-04-04
x射線涂層測(cè)厚儀高壓電源● 輸出電壓：0~50kv● 燈絲電流：0~2ma● 功率：50w● 紋波系數(shù)：0.1%（p-p 8小時(shí)穩(wěn)定性：0.05%
更新時(shí)間:2025-04-04
通過軟件操作樣品移動(dòng)平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)不同測(cè)試點(diǎn)的測(cè)試需求；x射線測(cè)厚儀 鍍鋅配置高分辨率si-pin半導(dǎo)體探測(cè)器，實(shí)現(xiàn)對(duì)多鍍層樣品的分析；內(nèi)置高清晰攝像頭，方便用戶觀測(cè)樣品狀態(tài)；高度激光敏感性傳感器保護(hù)測(cè)試窗口不被樣品撞擊。
更新時(shí)間:2025-04-04
供應(yīng)x射線測(cè)厚儀廠家滿足不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求移動(dòng)平臺(tái)可測(cè)試點(diǎn)
更新時(shí)間:2025-04-04
x射線熒光納米測(cè)厚儀應(yīng)用領(lǐng)域?qū)I(yè)電鍍、化鍍、熱鍍等各種鍍層厚度進(jìn)行檢測(cè)。可廣泛應(yīng)用于光伏行業(yè)、五金衛(wèi)浴、電子電氣、航空航天、磁性材料、汽車行業(yè)、通訊行業(yè)等領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-04-04
鍍層膜厚分析儀注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-04-04
鍍層膜厚分析儀注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-04-04
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-04-04
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-04-04
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-04-04
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-04-04
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-04-04
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-04-04
鍍層厚度測(cè)量?jī)x鋅鎳合金專用光譜儀型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）
更新時(shí)間:2025-04-04
合金成分鍍層膜厚分析儀器注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-04-04
鉛玻璃屏蔽罩。合金鍍層膜厚儀高低壓電源。x光管。高度傳感器保護(hù)傳感器計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)
更新時(shí)間:2025-04-04
鉛玻璃屏蔽罩。合金鍍層膜厚儀高低壓電源。x光管。高度傳感器保護(hù)傳感器計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)
更新時(shí)間:2025-04-04
合金成分鍍層厚度膜厚儀 注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-04-04
合金成分鍍層厚度膜厚儀 注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-04-04
電鍍液鍍層含量測(cè)定鍍層測(cè)厚儀 型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。
更新時(shí)間:2025-04-04
鍍層膜厚儀 型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。
更新時(shí)間:2025-04-04
xrf電鍍層膜厚儀 開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。
更新時(shí)間:2025-04-04
xrf電鍍層膜厚儀 開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。
更新時(shí)間:2025-04-04
xrf電鍍層膜厚儀 開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。
更新時(shí)間:2025-04-04
鍍層厚度測(cè)試分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。
更新時(shí)間:2025-04-04
天瑞儀器thick800a 注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞
更新時(shí)間:2025-04-04
x射線鍍層測(cè)厚檢測(cè)儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。高低壓電源。x光管。
更新時(shí)間:2025-04-04
國(guó)產(chǎn)鍍層膜厚儀注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-04-04
國(guó)產(chǎn)鍍層膜厚儀注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-04-04
國(guó)產(chǎn)x鍍層測(cè)厚儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-04-04
天瑞儀器光譜儀thick800a 同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
更新時(shí)間:2025-04-04
x鍍層測(cè)厚儀注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-04-04
電鍍滾鍍廠測(cè)厚儀：thick800a測(cè)定步驟：步：新建snpb-cu鍍層厚度標(biāo)準(zhǔn)曲線第二步：確定測(cè)試時(shí)間：40s第三步：測(cè)試其重復(fù)性得出相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差
更新時(shí)間:2025-04-04
x射線鍍層測(cè)厚檢測(cè)儀針對(duì)不規(guī)則樣品進(jìn)行高度激光定位測(cè)試點(diǎn)分析；軟件可分析5層25種元素鍍層；通過軟件操作樣品移動(dòng)平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)不同測(cè)試點(diǎn)的測(cè)試需求；配置高分辨率si-pin半導(dǎo)體探測(cè)器，實(shí)現(xiàn)對(duì)多鍍層樣品的分析；
更新時(shí)間:2025-04-04
電鍍層測(cè)厚儀型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
更新時(shí)間:2025-04-04
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。銅鍍鎳鍍鋅測(cè)厚膜厚儀相互立的基體效應(yīng)校正模型。多變量非線性回收程序度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。電源: 交流220v±5v, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。
更新時(shí)間:2025-04-04
多元素復(fù)合鍍層測(cè)試儀 型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。
更新時(shí)間:2025-04-04
thick800a 膜厚儀特點(diǎn)1.上照式2.儀高分辨率探測(cè)器3.鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)4.測(cè)試組件可升降5.可視化操作6良好的射線屛蔽
更新時(shí)間:2025-04-04
thick800a 膜厚儀特點(diǎn)1.上照式2.儀高分辨率探測(cè)器3.鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)4.測(cè)試組件可升降5.可視化操作6良好的射線屛蔽
更新時(shí)間:2025-04-04
鍍層膜厚測(cè)厚儀型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）
更新時(shí)間:2025-04-04
電鍍層x射線光譜儀特點(diǎn)1.上照式2.儀高分辨率探測(cè)器3.鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)4.測(cè)試組件可升降5.可視化操作6良好的射線屛蔽
更新時(shí)間:2025-04-04
鍍層厚度檢測(cè)儀 型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）
更新時(shí)間:2025-04-04
五金配件鈦合金檢測(cè)儀特點(diǎn)1.上照式2.儀高分辨率探測(cè)器3.鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)4.測(cè)試組件可升降
更新時(shí)間:2025-04-04
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